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ROHM開發(fā)出針對150VGaN HEMT的8V柵極耐壓技術(shù)

2021年04月13日 15:20:29 來源:科技金融時報 作者:

  全球知名半導(dǎo)體制造商ROHM面向以工業(yè)設(shè)備和通信設(shè)備為首的各種電源電路,開發(fā)出針對150V耐壓GaN HEMT的、高達8V的柵極耐壓(柵極-源極間額定電壓)技術(shù)。

  ROHM通過采用自有的結(jié)構(gòu),成功地將柵極-源極間的額定電壓從常規(guī)的6V提高到了業(yè)內(nèi)超高的8V。

  該GaN器件所采用的封裝形式,具有出色的散熱性能且通用性非常好,在可靠性和可安裝性方面已擁有可靠的實際應(yīng)用記錄,將使現(xiàn)有硅器件的替換工作和安裝工序中的操作更加容易。

  該GaN器件不僅提高了柵極-源極間額定電壓并采用了低電感封裝,還能夠更大程度地發(fā)揮出器件的性能,與硅器件相比,開關(guān)損耗可降低約65%。

[編輯: 陳嘉宜]
(本文來源:科技金融時報)
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